关键词:
级联碰撞
辐照损伤
金薄膜
第一壁
分子动力学模拟
势函数
摘要:
在载能离子与材料相互作用中会发生强烈的能量交换,这种离子碰撞及能量交换会引起材料在原子尺度上发生一系列物理化学变化,从而影响材料的结构和性质。深入理解载能粒子与材料的相互作用,对载能离子在离子束纳米加工、航空器件抗辐照、核反应堆器壁材料研发等方面具有非常重要的意义,例如,离子束辐照下可以形成三维纳米结构的精确控制。由于载能粒子与材料晶格原子碰撞过程时间短、作用剧烈,在实验中很难捕捉到这种撞击过程,深入理解这种碰撞过程对材料微观结构的影响和性质的调制,需要理论模拟的介入。理论模拟可以在原子尺度提供辐照离子作用下材料体系结构演化的具体过程,例如级联碰撞离子散射、局域高温场演化、局域原子迁移、缺陷的形成过程等,帮助理解离子辐照下材料微观性质的变化和建立材料结构演化的规律。本论文通过第一性原理计算建立原子力场函数,在此基础上利用分子动力学模拟研究高能离子辐照下金属材料微观结构变化的规律。主要研究了镓离子辐照引起的材料局域结构弯曲、力学性质恶化和热核反应引起的辐照下表面形貌演化及结构损伤的问题。本论文主要取得以下创新性结果:1.通过对比不同晶体结构的金薄膜在多种辐照方式下的结构变化,发现薄膜受辐照向前表面弯曲,其机制为适当能量的镓离子辐照下物质粒子向前表面迁移引发局域模量软化。运用分子动力学方法对单晶与多晶金薄膜受局域辐照与全局辐照的弯曲过程进行了模拟。单晶薄膜受辐照作用在前表面产生空位缺陷,局域模量发生软化,在内应力作用下形成初始的弯曲。在局域辐照条件下,缺陷在辐照位置迅速积累并向薄膜背面延伸形成晶界,晶界处的物质迁移速率远大于晶体内空位的形成速率,使得薄膜加速弯曲。全局辐照条件下,晶体内产生的缺陷分散仅能形成小的团簇,不能有效聚集,在应力作用下这些缺陷团簇作为形核位点形成层错。层错滑移使得薄膜整体向离子源倾斜。多晶薄膜受辐照弯曲速率跟晶界与辐照点的相对位置有关,辐照点偏离晶界时不能引起明显物质迁移,薄膜弯曲缓慢。局域辐照会诱导周围晶界向辐照中心迁移,直至晶界与表面交点与辐照中心重合,之后晶界成为主要的物质运输通道加速薄膜弯曲。在全局辐照下,多晶薄膜受物质迁移速率影响呈现不均匀弯曲,且弯曲在晶界处较为明显。高能辐照粒子会导致薄膜结构不稳定,弯曲方向和角度出现很大的随机性。2.通过对多晶纳米金薄膜的辐照与拉伸过程模拟,发现多晶金薄膜在较大应变下出现恶化的原因为晶界向辐照区汇聚。为了研究辐照影响,我们运用Forcre-matching的方法结合第一性原理计算结果建立了Au-Ga的力场函数。通过分子动力学模拟了多晶纳米金薄膜受Ga离子辐照的过程,并对辐照前后薄膜的力学性质进行测试,发现辐照后薄膜抗拉性及延展性均比辐照前薄膜有所下降。通过辐照前后对比发现辐照引发的薄膜结构改变主要有两方面:表面原子溅射引起薄膜变薄和辐照区域局部融化后再结晶导致晶界向辐照区汇聚。通过引入参照模型对变量进行分离简化,确认了辐照引起的晶界迁移是薄膜强度下降的主要原因。通过对再结晶区域进行分析,发现新形成的晶界有明显的择优取向,晶界交错程度降低,导致抗拉强度下降,拉伸过程易在辐照区晶界形成剪切带加速薄膜断裂。非致密薄膜受离子辐照可促进晶粒生长并提升薄膜致密性,一定程度上缓解大应变下的强度下降。3.通过模拟氦气泡的生长过程,揭示了氦辐照下金属钨表面纳米结构形成的微观机制。通过对不同温度下钨晶格内氦原子的运动模拟,发现氦原子团在温度范围800 K-1800 K下迁移能力内最高,有利于气泡的成核长大。气泡的形成深度与氦的入射能量直接相关,我们在对不同深度的氦气泡的生长过程模拟中发现浅层气泡导致钨表面形成不规则凹陷,而深层气泡可导致表面出现多种纳米结构。气泡压力使得氦/钨界面处不断产生位错环,我们分析位错的环迁移及气泡间相互作用得出表面纳米结构倾向于沿<111>方向生长并沿<100>方向相互连结,因此表面形貌与晶粒取向密切相关。根据滑移方向与表面晶向的关系,模拟了4种典型取向的表面纳米结构的生长过程,成功解释了实验上辐照表面特征形貌的形成机制。4.通过研究热核反应堆钨器壁与液态金属锂防护层的相互作用,发现液态锂保护下可以有效抑制的钨表面缺陷的产生。通过对液态金属锂在钨表面的运动模拟,发现锂可以很好的吸附和润湿钨表面并形成层状结构。锂在钨的(110)表面上具有最大的扩散速率,而(100)表面限制了锂原子的迁移。在(110)表面上,锂原子可以在室温下(低于锂的熔点)形成扩散前驱膜。发现扩散速率随覆盖率的变化非常显著。在500 K时,第一层锂的扩散速率要比第二层高约两个数量级。单层锂在(110)表面的扩散系数极大值与二维锂的相变有关。通过液态锂保护下的钨表面辐照损伤模拟,发现锂原子能量高于5 keV时,钨衬底表层10 nm区域总的缺陷浓度与入射粒子能量无关,仅随辐照剂量增大而增加。